拓荆科技2022年半年度业绩说明会
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拓荆科技688072
拓荆科技股份有限公司(简称“拓荆科技”或“公司”),成立于2010年4月,2022年4月20日在上海证券交易所科创板成功挂牌上市,股票代码688072。公司主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大核心设备。主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(pecvd)设备、原子层沉积(ald)设备和次常压化学气相沉积(sacvd)设备三个产品系列,已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线,打破国际厂商在高端半导体薄膜沉积设备领域对国内市场的垄断,与国际寡头直接竞争。
拓荆科技经过十余年的创新发展,已成为国内唯一一家产业化应用的集成电路pecvd、sacvd设备厂商,也是国内领先的ald设备厂商。公司以国家级高层次人才为核心,已经建成了一支国际化、专业化的半导体薄膜沉积设备研发技术团队。公司先后7次承担国家重大专项/课题,坚持自主创新,构建了完善的知识产权体系,拥有多项国际先进的核心技术,设备性能及关键指标均达到国际同类设备水平。公司通过在薄膜沉积设备这一细分领域的积累和快速发展,已经成为国内半导体设备行业的领军企业。
公司以建立“世界领先的薄膜设备公司”为愿景,将继续致力于高端半导体设备的研发生产,扩大现有设备市场占有率,提高公司设备的技术先进性,丰富公司设备种类,拓展技术应用领域,提高公司综合实力,为产业发展做出更大的贡献。
上证路演中心开场
嘉宾致辞
管理层介绍公司发展情况及业绩
视频回复预征集问题
网络文字互动问答
嘉宾结束致辞
吕光泉先生
董事长
拓荆科技股份有限公司
展开
田晓明先生
总经理
拓荆科技股份有限公司
展开
可视化财报
用户提问
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